中国国務院は、2022年4月24日(日)の午前に、2021年の中国知財関連データを公表する記者発表会を開催しました。2021年の出願状況については、本年1月の記者発表会でも速報値が公表されましたが、今回の発表会では、より正確な数値データと、知的財産権の保護状況も含む広範囲な情報提供がなされました。中国での出願件数は、コロナ禍の影響を感じさせず、特許・商標出願ともに前年比30％以上伸びています。また、出願件数の増加にも関わらず、高価値特許の審査期間は13.3か月、商標の平均審査期間も４か月の高速審査となっています。

●2021年の知的財産権取得状況

●2021年の知的財産保護状況

Source: http://www.gov.cn/xinwen/2022-04/24/content_5686971.htm